回折格子の製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 小林 秀俊; 亀井 英徳 |
| 专利号 | JP1995297492A |
| 著作权人 | SUMITOMO ELECTRIC IND LTD |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 回折格子の製造方法 |
| 英文摘要 | 【目的】 光学性能の良好な回折格子の製造方法を実現する。 【構成】 III-V族化合物半導体、特にInP系のうちInGaAsPからなる基板上にレジスト膜を形成する第1の工程と、レジスト膜を回折格子の周期パターンで露光する第2の工程と、レジスト膜を現像することにより、その厚さが周期的かつ滑らかに変化する周期状パターンを形成する第3の工程と、周期状パターンを薄化することにより基板の表面を周期的に露出させる第4の工程と、薄化された周期状パターンをマスクとして、基板をリン酸系ウェットエッチャントでエッチングすることにより、基板の表面を周期的かつ滑らかに変化する凹凸形状とする第5の工程とを備える。基板表面は周期的かつ滑らかに変化する凹凸形状なので、後工程の多層成長に際して高温に昇温しても、凹凸形状が崩れにくい。 |
| 公开日期 | 1995-11-10 |
| 申请日期 | 1994-04-28 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/43955]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | SUMITOMO ELECTRIC IND LTD |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 小林 秀俊,亀井 英徳. 回折格子の製造方法. JP1995297492A. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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