中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
半導体レーザ素子、半導体レーザ装置、半導体レーザ素子の製造方法、および半導体レーザ装置の製造方法

文献类型:专利

作者阿閉 誠; 牧田 幸治
专利号JP2008004847A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子、半導体レーザ装置、半導体レーザ素子の製造方法、および半導体レーザ装置の製造方法
英文摘要【課題】半田流出によるレーザ光の遮りを防止できる、信頼性の高い半導体レーザ装置を提供する。 【解決手段】半導体基板101上に、第1クラッド層102、その端面からレーザ光を出射させるための活性層103、第2クラッド層104、所定の貫通孔を有する電流ブロック層105、電極層106、107が積層されており、第2クラッド層104は、電流ブロック層105が有する貫通孔を介して、電極層106に電気的に接続されている。そして、活性層103の端面よりも突出した構造(電極層106)を、活性層103を基準として半導体基板101と反対側に有している。 【選択図】図1
公开日期2008-01-10
申请日期2006-06-23
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/44088]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
阿閉 誠,牧田 幸治. 半導体レーザ素子、半導体レーザ装置、半導体レーザ素子の製造方法、および半導体レーザ装置の製造方法. JP2008004847A.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。