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一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统

文献类型:专利

作者王敏; 王警卫; 蔡万绍; 刘兴胜
发表日期2016-10-05
专利号CN103545716B
著作权人西安炬光科技股份有限公司
国家中国
文献子类授权发明
其他题名一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统
英文摘要本发明提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统,该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中,降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致,均为TM(或TE);在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片,所述偏振合束片对TM(或TE)光进行透射,对TE(或TM)光进行反射;在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片,用以将光的偏振态旋转45°;在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。
公开日期2016-10-05
申请日期2013-10-29
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45028]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位西安炬光科技股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
王敏,王警卫,蔡万绍,等. 一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统. CN103545716B. 2016-10-05.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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