圖形曝光方法以及圖形曝光裝置
文献类型：专利
| 作者 | 押田良忠; 內藤芳達; 鈴木光弘; 內山文二; 山口剛 |
| 发表日期 | 2011-10-21 |
| 专利号 | HK1082970A1 |
| 著作权人 | 日立比亞機械股份有限公司 |
| 国家 | 中国香港 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 圖形曝光方法以及圖形曝光裝置 |
| 英文摘要 | 本发明提供一种生产周期短且廉价的装置、并且不要运行成本的图形曝光方法以及图形曝光装置。对于从多个半导体激光器分别出射的多束激光1a的出射端(5)，一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向相同的方向，另一个配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向。在该场合，使配置在与多边形镜子(27)的扫描方向交叉的方向的出射端(15)的排列间距等于曝光图形的分辨率。该场合，使激光的波长在410nm以下即可。 |
| 公开日期 | 2011-10-21 |
| 申请日期 | 2006-03-02 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45266]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 日立比亞機械股份有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 押田良忠,內藤芳達,鈴木光弘,等. 圖形曝光方法以及圖形曝光裝置. HK1082970A1. 2011-10-21. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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