面型光増幅素子とその製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 清水 三聡 |
| 发表日期 | 1999-04-30 |
| 专利号 | JP2920213B1 |
| 著作权人 | 工業技術院長 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 面型光増幅素子とその製造方法 |
| 英文摘要 | 【目的】 単一かつ均一で、要すれば大口径の光ビームの増幅やレーザ発振も可能な素子を提供する。 【構成】 光増幅機能部分11を、当該光増幅機能部分11を構築した基板とは異なる他の透明基板21に透明接着剤22を用いて接着する。活性層13を挟んでホール注入側となる p型半導体層14,15へのホール注入は、複数個に分割して設けられた分割電極16からなす。 |
| 公开日期 | 1999-07-19 |
| 申请日期 | 1998-02-12 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46136]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 工業技術院長 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 清水 三聡. 面型光増幅素子とその製造方法. JP2920213B1. 1999-04-30. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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