GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact
文献类型:专利
作者 | BOUR, DAVID P.; CORZINE, SCOTT W |
发表日期 | 2009-12-29 |
专利号 | US7638810 |
著作权人 | AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE. LTD. |
国家 | 美国 |
文献子类 | 授权发明 |
其他题名 | GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact |
英文摘要 | Refractory metal ELOG mask are used for GaN based VCSELs and edge emitter structures to serve as intracavity contacts. In these structures the refractory metal ELOG masks serve both as ohmic contact metals as well as masks for ELOG. |
公开日期 | 2009-12-29 |
申请日期 | 2005-09-09 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46438] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE. LTD. |
推荐引用方式 GB/T 7714 | BOUR, DAVID P.,CORZINE, SCOTT W. GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact. US7638810. 2009-12-29. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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