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GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact

文献类型:专利

作者BOUR, DAVID P.; CORZINE, SCOTT W
发表日期2009-12-29
专利号US7638810
著作权人AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE. LTD.
国家美国
文献子类授权发明
其他题名GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact
英文摘要Refractory metal ELOG mask are used for GaN based VCSELs and edge emitter structures to serve as intracavity contacts. In these structures the refractory metal ELOG masks serve both as ohmic contact metals as well as masks for ELOG.
公开日期2009-12-29
申请日期2005-09-09
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46438]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE. LTD.
推荐引用方式
GB/T 7714
BOUR, DAVID P.,CORZINE, SCOTT W. GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact. US7638810. 2009-12-29.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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