相干光源装置及投影机
文献类型:专利
作者 | 清水干雄; 冈本昌士; 三浦雄一; 东间崇宽 |
发表日期 | 2016-10-26 |
专利号 | CN104136960B |
著作权人 | 优志旺电机株式会社 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 授权发明 |
其他题名 | 相干光源装置及投影机 |
英文摘要 | 提供一种相干光源装置及投影机,避免在将半导体激光或其他激光的相干光投射的情况下不可避免地出现的散斑使投射的光的均匀性劣化的问题的。构成为,具有由相干光源形成的第1光放射区域;具备:第1光学系统,将来自第1光放射区域的光投影,形成第2光放射区域;光偏向机构,在第2光放射区域的附近,将与第2光放射区域的形成有关的光束偏向;第2光学系统,设置在光偏向机构的后级;光混合机构,设置在第2光学系统的后级,用来进行向其入射端入射的光线的角度和位置的成分的混合;第2光学系统在远方形成与第1光放射区域共轭的像,并且在入射端形成与第1光学系统的出射光瞳大致共轭的第3光放射区域;光偏向机构继续使将光束偏向的方向连续地变化的动作。 |
公开日期 | 2016-10-26 |
申请日期 | 2013-02-20 |
状态 | 授权 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46458] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 优志旺电机株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 清水干雄,冈本昌士,三浦雄一,等. 相干光源装置及投影机. CN104136960B. 2016-10-26. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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