集積型光学的デバイスの製造方法
文献类型：专利
| 作者 | ペーテル·レオ·ブーフマン; ペーテル·フエテイガ; オツト·フエーゲリ; デイビツド·ジヨン·ウエブ |
| 发表日期 | 1995-11-13 |
| 专利号 | JP1995105573B2 |
| 著作权人 | インターナシヨナル·ビジネス·マシーンズ·コーポレーシヨン |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 集積型光学的デバイスの製造方法 |
| 英文摘要 | PURPOSE: To obtain a semiconductor laser mirror having a very flat and smooth horizontal surface by forming a laminate having a stripe waveguide having a broad terminated end on a wafer, and anisotropically etching a mirror face across the broad terminated end so that only a short part thereof is shallow. CONSTITUTION: A positive resist is applied on an active layer 31 of a laminate, exposed through a laser ridge pattern, developed to form a patterned photo resist 32 having thin parts 32.1 and broad parts 32.2, and ridges 33 along a 0-pattern of the photo resist. Anisotropic etching forms grooves 39 of the mirror face into the ridge 33 surface, with leaving self-aligned separated contact stripes only. A mask 37 for etching the grooves 39 is formed. By a Cl2 /Ar-CAIBE process using Ar and Cl, the grooves are etched, and hard baked resist 37 is removed by ashing in an O-plasma. |
| 公开日期 | 1995-11-13 |
| 申请日期 | 1990-06-15 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/47375]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | インターナシヨナル·ビジネス·マシーンズ·コーポレーシヨン |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | ペーテル·レオ·ブーフマン,ペーテル·フエテイガ,オツト·フエーゲリ,等. 集積型光学的デバイスの製造方法. JP1995105573B2. 1995-11-13. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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