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발명의 명칭 질화물 반도체 레이저 소자 및 그 제조 방법

文献类型:专利

作者MASUI, SHINGO
发表日期2013-12-24
专利号KR101346992B1
著作权人니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤
国家韩国
文献子类授权发明
其他题名발명의 명칭 질화물 반도체 레이저 소자 및 그 제조 방법
英文摘要본 발명은 질화물 반도체 레이저의 횡 모드를 안정화시켜, 저임계값의 질화물 반도체 레이저 소자와 그 제조 방법을 제공하기 위한 것으로, 기판과, 그 기판 상에 적층되고, 그 표면에 릿지를 갖는 질화물 반도체층과, 적어도릿지 양측의 질화물 반도체층 표면을 피복하는 제1 보호막과, 릿지 상 및 제1 보호막 상에 형성된 전극을 구비한질화물 반도체 레이저 소자로서, 상기 릿지 양측의 질화물 반도체층 상으로서, 제1 보호막과 전극 사이에공극이, 혹은 제1 보호막과 전극으로 둘러싸인 공극이 배치되어 있는 질화물 반도체 레이저 소자.
公开日期2014-01-02
申请日期2007-03-19
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/47408]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤
推荐引用方式
GB/T 7714
MASUI, SHINGO. 발명의 명칭 질화물 반도체 레이저 소자 및 그 제조 방법. KR101346992B1. 2013-12-24.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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