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ZnSe化合物半導体薄膜結晶の製造方法及び製造装置

文献类型:专利

作者郭 立信; 安田 哲二; 三輪 司郎; 木村 康三; 八百 隆文; 王 太宏; 金 成国; 田中 一宜
发表日期1999-01-14
专利号JP2875782B2
著作权人技術研究組合オングストロームテクノロジ研究機構
国家日本
文献子类授权发明
其他题名ZnSe化合物半導体薄膜結晶の製造方法及び製造装置
英文摘要【課題】 GaAs化合物半導体基板上に、結晶欠陥のないZnSe化合物半導体結晶を成長させ、高品質のZnSe化合物半導体薄膜結晶を製造する。 【解決手段】 GaAs化合物半導体基板上に、ZnSe化合物半導体薄膜結晶を分子線エピタキシーにより形成させるに当り、あらかじめGaAs半導体基板をGaAs表面再構成し、次いで反射率差分光スペクトルの特定エネルギーの反射率差信号の強度が一定になるまでZnのみを分子線照射したのち、ZnとSeを同時に分子線照射し、ZnSe化合物半導体結晶を成長させる。
公开日期1999-03-31
申请日期1996-09-17
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/47524]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位技術研究組合オングストロームテクノロジ研究機構
推荐引用方式
GB/T 7714
郭 立信,安田 哲二,三輪 司郎,等. ZnSe化合物半導体薄膜結晶の製造方法及び製造装置. JP2875782B2. 1999-01-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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