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基于Y波导的双分布反馈激光器双放大器的制作方法

文献类型:专利

作者孔端花; 朱洪亮; 梁松
发表日期2011-08-31
专利号CN101938083B
著作权人中国科学院半导体研究所
国家中国
文献子类授权发明
其他题名基于Y波导的双分布反馈激光器双放大器的制作方法
英文摘要一种基于Y波导的双分布反馈激光器+双放大器的制作方法,包括:在N型磷化铟衬底上依次外延制作InP缓冲层、下波导层、多量子阱有源区、上波导层和光栅层;制作无源波导区,另一侧为有源波导区;制作光栅;在有源波导区和无源波导区上依次外延制作光栅盖层、光限制层和电接触层;在电接触层上向下刻蚀出Y型脊波导;在光栅层的上面及Y型脊波导的表面生长二氧化硅绝缘层;将Y型脊波导上面的二氧化硅绝缘层腐蚀掉;在有源波导区上的Y型脊波导两臂的中间制作第一电隔离沟,在有源波导区上的DFB区和SOA区之间制作第二电隔离沟;在第一电隔离沟的两侧及第二电隔离沟的两侧制作P面电极;将N型磷化铟衬底减薄;在减薄后的N型磷化铟衬底的下面制作N面电极,完成器件的制作。
公开日期2011-08-31
申请日期2010-07-14
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/47881]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
孔端花,朱洪亮,梁松. 基于Y波导的双分布反馈激光器双放大器的制作方法. CN101938083B. 2011-08-31.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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