基于Y波导的双分布反馈激光器双放大器的制作方法
文献类型:专利
作者 | 孔端花; 朱洪亮; 梁松 |
发表日期 | 2011-08-31 |
专利号 | CN101938083B |
著作权人 | 中国科学院半导体研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 授权发明 |
其他题名 | 基于Y波导的双分布反馈激光器双放大器的制作方法 |
英文摘要 | 一种基于Y波导的双分布反馈激光器+双放大器的制作方法,包括:在N型磷化铟衬底上依次外延制作InP缓冲层、下波导层、多量子阱有源区、上波导层和光栅层;制作无源波导区,另一侧为有源波导区;制作光栅;在有源波导区和无源波导区上依次外延制作光栅盖层、光限制层和电接触层;在电接触层上向下刻蚀出Y型脊波导;在光栅层的上面及Y型脊波导的表面生长二氧化硅绝缘层;将Y型脊波导上面的二氧化硅绝缘层腐蚀掉;在有源波导区上的Y型脊波导两臂的中间制作第一电隔离沟,在有源波导区上的DFB区和SOA区之间制作第二电隔离沟;在第一电隔离沟的两侧及第二电隔离沟的两侧制作P面电极;将N型磷化铟衬底减薄;在减薄后的N型磷化铟衬底的下面制作N面电极,完成器件的制作。 |
公开日期 | 2011-08-31 |
申请日期 | 2010-07-14 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/47881] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 中国科学院半导体研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 孔端花,朱洪亮,梁松. 基于Y波导的双分布反馈激光器双放大器的制作方法. CN101938083B. 2011-08-31. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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