单片集成微型透镜的制作方法
文献类型：专利
| 作者 | 蔡道民; 李献杰; 曾庆明; 高向芝; 尹顺政; 赵永林 |
| 发表日期 | 2011-02-02 |
| 专利号 | CN101504468B |
| 著作权人 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 单片集成微型透镜的制作方法 |
| 英文摘要 | 本发明公开了一种单片集成微型透镜的制作方法，其包括以下工序：1)在基板的一面形成一凹坑；2)用回流光刻胶填充凹坑，然后涂覆顶层掩蔽用光刻胶；3)将凹坑上的光刻胶形成一圆台状的光刻胶柱；4)去除顶层掩蔽用光刻胶；5)应用回流工艺熔化光刻胶柱，形成微型透镜。采用本发明的方法制备的微型透镜具有透镜形状好、牢靠性好和可批量生产等特点，可广泛用于发光管、激光器、光探测器等光通讯器件。 |
| 公开日期 | 2011-02-02 |
| 申请日期 | 2009-03-19 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48002]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 蔡道民,李献杰,曾庆明,等. 单片集成微型透镜的制作方法. CN101504468B. 2011-02-02. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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