分布反馈型激光装置
文献类型：专利
| 作者 | 奥贯雄一郎 |
| 发表日期 | 2005-10-19 |
| 专利号 | CN1224146C |
| 著作权人 | 三菱电机株式会社 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 分布反馈型激光装置 |
| 英文摘要 | 本发明旨在提供能够抑制因制造偏差引起的光耦合系数的变动的、使制造合格率得以提高的分布反馈型激光装置，其中设有：位于InP衬底(1)上激活层(4)两侧的包覆层，以及位于任一包覆层中的、与包覆层折射率不同的、带有在光出射方向以预定间距在与该出射方向相交的方向上延伸的栈状格子的衍射光栅(6)；还至少设有一层光分布调整层(2)，该层位于与所述衍射光栅相分离的包覆层内，其成分与所述衍射光栅的相同。 |
| 公开日期 | 2005-10-19 |
| 申请日期 | 2002-10-18 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48076]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 三菱电机株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 奥贯雄一郎. 分布反馈型激光装置. CN1224146C. 2005-10-19. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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