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一种制备GaN基激光器的方法以及一种GaN基激光器

文献类型:专利

作者贾传宇; 张国义; 童玉珍
发表日期2017-04-26
专利号CN104319631B
著作权人北京大学东莞光电研究院
国家中国
文献子类授权发明
其他题名一种制备GaN基激光器的方法以及一种GaN基激光器
英文摘要本发明提供一种制备新型GaN基激光器的方法,采用金属有机化合物气相外延技术解决GaN基激光器制备中的一系列关键技术与科学问题,技术方案为:一种制备新型GaN基激光器的方法,采用金属有机化合物气相外延技术,以及三甲基镓、三甲基铟、三甲基铝作为III族源;氨气作为V族源、硅烷作为n型掺杂源;二茂镁作为p型掺杂源制得新型GaN基激光器。本发明创造性采用多周期In组分线性渐变InxGa1‑xN/GaN 超晶格结构作为激光器波导层取代传统GaN单层做为GaN基蓝光激光器的波导层。有效的提高光场在激光发射区的限制因子,提高量子阱有源区的增益。
公开日期2017-04-26
申请日期2014-09-28
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48094]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京大学东莞光电研究院
推荐引用方式
GB/T 7714
贾传宇,张国义,童玉珍. 一种制备GaN基激光器的方法以及一种GaN基激光器. CN104319631B. 2017-04-26.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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