波导、包括波导的装置和波导的制造方法
文献类型：专利
| 作者 | 小山泰史 |
| 发表日期 | 2015-09-09 |
| 专利号 | CN102790356B |
| 著作权人 | 佳能株式会社 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 波导、包括波导的装置和波导的制造方法 |
| 英文摘要 | 本公开涉及波导、包括波导的装置和波导的制造方法。提供一种能够抑制由于制造过程等在初始阶段或操作中在半导体中导致的应变和缺陷，以实现诸如振荡特性的特性的改善和稳定化的波导以及该波导的制造方法。波导包括：由相对于波导模式的电磁波介电常数的实部为负的负介电常数介质构成的第一导体层和第二导体层；和与第一导体层和第二导体层接触并被设置在其间并包含半导体部分的芯层。至少第一导体层具有沿面内方向延伸的特定的凹凸结构。 |
| 公开日期 | 2015-09-09 |
| 申请日期 | 2012-05-14 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48224]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 佳能株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 小山泰史. 波导、包括波导的装置和波导的制造方法. CN102790356B. 2015-09-09. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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