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斜腔面二维光子晶体分布反馈量子级联激光器及制备方法

文献类型:专利

作者陆全勇; 张伟; 王利军; 刘俊岐; 李路; 刘峰奇; 王占国
发表日期2012-03-28
专利号CN102025110B
著作权人中国科学院半导体研究所
国家中国
文献子类授权发明
其他题名斜腔面二维光子晶体分布反馈量子级联激光器及制备方法
英文摘要一种斜腔面二维光子晶体分布反馈量子级联激光器及制备方法,其中斜腔面二维光子晶体分布反馈量子级联激光器,包括:一InP衬底;一InP波导限制层制作在InP衬底上;一InGaAs下波导层制作在InP波导限制层上;一应变补偿有源层制作在InGaAs下波导层上;一InGaAs上波导层制作在应变补偿有源层上;一二维长方光子晶体点阵图形制作在InGaAs上波导层中;一InP盖层制作在InGaAs上波导层上;一接触层制作在盖层上,形成二次外延片;在该二次外延片的表面向下刻蚀有V形双沟道,形成斜形脊状波导,该V形双沟道的深度到达限制层内;一二氧化硅层制作在V形双沟道及接触层的表面,接触层表面的二氧化硅层的中间开有一电流注入窗口;一正面电极制作在刻蚀后的二次外延片的表面;一金属金层制作在正面电极上,且填满两个V形双沟道;一合金电极制作在InP衬底的背面。
公开日期2012-03-28
申请日期2009-09-09
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48296]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
陆全勇,张伟,王利军,等. 斜腔面二维光子晶体分布反馈量子级联激光器及制备方法. CN102025110B. 2012-03-28.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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