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第13族氮化物晶体、所述晶体衬底及所述晶体制备方法

文献类型:专利

作者林昌弘; 佐藤隆; 木村千春; 三好直哉; 村上明繁; 三宅信辅; 和田纯一; 皿山正二
发表日期2016-09-21
专利号CN103668460B
著作权人株式会社理光
国家中国
文献子类授权发明
其他题名第13族氮化物晶体、所述晶体衬底及所述晶体制备方法
英文摘要本发明涉及一种具有六方晶体结构的第13族氮化物晶体,其包含至少一个氮原子和至少一个从B、Al、Ga、In和Tl组成的组中选择的金属原子。平行于c‑轴的横截面中底面位错的位错密度为104cm‑2或更大。
公开日期2016-09-21
申请日期2013-09-13
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48300]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社理光
推荐引用方式
GB/T 7714
林昌弘,佐藤隆,木村千春,等. 第13族氮化物晶体、所述晶体衬底及所述晶体制备方法. CN103668460B. 2016-09-21.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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