一种DFB激光器外延片
文献类型:专利
作者 | 单智发 |
发表日期 | 2018-03-02 |
专利号 | CN207069287U |
著作权人 | 苏州全磊光电有限公司 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 实用新型 |
其他题名 | 一种DFB激光器外延片 |
英文摘要 | 本实用新型提供一种DFB激光器外延片,包括衬底,所述衬底的正面上依次沉积有缓冲层、限制层、下波导层、量子阱、上波导层、上限制层、缓冲层、腐蚀阻挡层、包层和蚀刻的光栅制作层,光栅制作层上依次生长有二次外延层、势垒渐变层和欧姆接触层,所述衬底的背面设有保护层。通过在磷化铟衬底背面预先制作一层保护层,使外延生长的DFB激光器一次外延片质量好,均匀性和一致性好可稳定DFB激光器外延片生产,提高DFB激光器生产良率。 |
公开日期 | 2018-03-02 |
申请日期 | 2017-06-30 |
状态 | 授权 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49274] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 苏州全磊光电有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 单智发. 一种DFB激光器外延片. CN207069287U. 2018-03-02. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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