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一种DFB激光器外延片

文献类型:专利

作者单智发
发表日期2018-03-02
专利号CN207069287U
著作权人苏州全磊光电有限公司
国家中国
文献子类实用新型
其他题名一种DFB激光器外延片
英文摘要本实用新型提供一种DFB激光器外延片,包括衬底,所述衬底的正面上依次沉积有缓冲层、限制层、下波导层、量子阱、上波导层、上限制层、缓冲层、腐蚀阻挡层、包层和蚀刻的光栅制作层,光栅制作层上依次生长有二次外延层、势垒渐变层和欧姆接触层,所述衬底的背面设有保护层。通过在磷化铟衬底背面预先制作一层保护层,使外延生长的DFB激光器一次外延片质量好,均匀性和一致性好可稳定DFB激光器外延片生产,提高DFB激光器生产良率。
公开日期2018-03-02
申请日期2017-06-30
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49274]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位苏州全磊光电有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
单智发. 一种DFB激光器外延片. CN207069287U. 2018-03-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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