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GaN基激光器和超辐射发光二极管及其制备方法

文献类型:专利

作者孙钱; 冯美鑫; 周宇; 杨辉; 池田昌夫; 刘建平; 张书明; 李德尧; 张立群
发表日期2019-07-05
专利号CN106711764B
著作权人中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
国家中国
文献子类授权发明
其他题名GaN基激光器和超辐射发光二极管及其制备方法
英文摘要本发明公开了一种GaN基激光器和超辐射发光二极管及其制备方法。所述激光器和超辐射发光二极管的脊型结构通过外延生长直接形成,其包括表面分布有条形台阶结构的衬底,设置在所述衬底上并包覆所述条形台阶结构的、具有脊型结构的外延层,所述外延层包括依次于衬底上形成的下接触层、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、电子阻挡层、上限制层和上接触层。本发明通过在衬底上形成窗口区或预先刻蚀形成台阶结构的方法,直接在衬底上生长激光器和超辐射发光二极管脊型,脊型结构的两侧生长有光学限制层,不仅可有效提升器件的横向限制,降低器件的阈值电流,同时还可省去刻蚀操作,从而避免刻蚀损伤,进一步降低器件阈值电流,提高器件可靠性。
公开日期2019-07-05
申请日期2015-11-16
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49422]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
孙钱,冯美鑫,周宇,等. GaN基激光器和超辐射发光二极管及其制备方法. CN106711764B. 2019-07-05.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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