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半導体接着基板および半導体モジユール

文献类型:专利

作者濱崎 浩史; 古山 英人; 黒田 文彦; 阪口 眞弓; 中村 優
发表日期1993-02-12
专利号JP1993036643A
著作权人株式会社東芝
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体接着基板および半導体モジユール
英文摘要【目的】 簡単なプロセスでエッチング深さの誤差を一定微小範囲内に制御でき、かつ、厚い基板を得る場合にも適用できる半導体接着基板を提供することを目的とする。 【構成】 平滑な表面を有する少なくとも3層の半導体あるいは絶縁体の被エッチング層と、この被エッチング層の平滑面間に介在する半導体あるいは絶縁体のエッチング停止層とを具備し、前記エッチング停止層は、所望のエッチング方法に対して前記被エッチング層と異なるエッチング速度を有する。
公开日期1993-02-12
申请日期1991-07-29
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50718]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社東芝
推荐引用方式
GB/T 7714
濱崎 浩史,古山 英人,黒田 文彦,等. 半導体接着基板および半導体モジユール. JP1993036643A. 1993-02-12.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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