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金合金電極膜の製造方法

文献类型:专利

作者福田 康彦; 北園 俊郎
发表日期1995-03-31
专利号JP1995086207A
著作权人MATSUSHITA ELECTRON CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名金合金電極膜の製造方法
英文摘要【目的】 半導体基板オーミック接触用の金合金電極膜を、主材料であるAuと、合金化材料との各成膜厚さを制御し、種々の組成比の金合金膜を製造する。 【構成】 半導体基板1に第1のAu薄膜2を付着し、引続き合金化材料の薄膜3を付着し、最後にワイヤーボンド用としてのAu膜4を付着する。この後、合金化熱処理を行い、Auと合金化材料を相互拡散させて半導体基板付近に金合金膜を形成する。このとき、第1のAuと合金化材料の膜厚比率と合金化処理の処理温度と、処理時間を相互制御してAuに対する合金化材料の組成比をコントロールする。 【効果】 Auと合金化材料との各ソースのみを用いるだけで、任意の組成比の金合金電極膜を品質良く生成できる。
公开日期1995-03-31
申请日期1993-09-10
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50847]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRON CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
福田 康彦,北園 俊郎. 金合金電極膜の製造方法. JP1995086207A. 1995-03-31.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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