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半導体発光素子の製造方法および半導体結晶成長装置

文献类型:专利

作者齋藤 徹; 辻村 歩; 佐々井 洋一
发表日期1997-12-02
专利号JP1997312445A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体発光素子の製造方法および半導体結晶成長装置
英文摘要【課題】 低欠陥のZnSe系半導体レーザを提供する。 【解決手段】 第1の成長室においてn型GaAs基板上にGaAsバッファ層を形成し、さらにZn層を形成した後に、第2の成長室においてZnSe系材料を用いた半導体発光素子構造を形成する。III-V族化合物半導体を第1の成長室させ、その成長室でZn層を形成した後に、第2の成長室においてII-VI族化合物半導体を成長させ、半導体発光素子構造を形成する。これによってIII-V族とII-VI族との半導体界面に発生する欠陥が低減され超寿命の半導体発光素子が実現できる。
公开日期1997-12-02
申请日期1996-05-24
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/51032]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
齋藤 徹,辻村 歩,佐々井 洋一. 半導体発光素子の製造方法および半導体結晶成長装置. JP1997312445A. 1997-12-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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