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窒化物半導体レーザ及びその製造方法

文献类型:专利

作者太田 啓之; 竹間 清文
发表日期2000-09-08
专利号JP2000244068A
著作权人PIONEER ELECTRONIC CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名窒化物半導体レーザ及びその製造方法
英文摘要【課題】 レーザ構造において高品質な反射鏡面を再現性良く得られる3族窒化物半導体レーザ製造方法を提供する。 【解決手段】 3族窒化物半導体(AlxGa1-x)1-yInyN(0≦x≦1,0≦y≦1)からなる結晶層の複数を、劈開性又は裂開性の基板上に、順に積層してなる窒化物半導体レーザの製造方法において、劈開性又は裂開性の基板上に結晶層の複数を形成する結晶層形成工程と、基板及び結晶層間の界面に向け、基板側から光ビームを照射して、窒化物半導体の分解物領域を形成する工程と、分解物領域を交差する直線に沿って基板を劈開又は裂開し、積層した結晶層の共振用劈開面を形成する工程と、を含む。
公开日期2000-09-08
申请日期1999-06-25
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/51266]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位PIONEER ELECTRONIC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
太田 啓之,竹間 清文. 窒化物半導体レーザ及びその製造方法. JP2000244068A. 2000-09-08.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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