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半導体装置及び該半導体装置における放熱方法

文献类型:专利

作者稲永 宏; 坂本 順信
发表日期2008-02-14
专利号JP2008034640A
著作权人RICOH PRINTING SYSTEMS LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体装置及び該半導体装置における放熱方法
英文摘要【課題】効率良く放熱することで、半導体装置における高出力化や寿命の向上、熱による光出力変動の抑制を実現させる。 【解決手段】半導体レーザ素子をマウントしたヒートシンクをステムに取り付けた構成からなる半導体装置において、前記ステムの予め設定された部分に前記ヒートシンクを貫通するための開口部を形成し、前記ヒートシンクの一部を前記開口部から通過させ、通過させた前記ヒートシンクの端面を前記半導体レーザ素子からのレーザ光の発光動作を制御するためのレーザ駆動基板に接するように固定し、前記レーザ駆動基板の前記端面と接する位置を含む所定の領域に前記ヒートシンクからの熱を放熱させるための金属膜部を設けることにより、上記課題を解決する。 【選択図】図3
公开日期2008-02-14
申请日期2006-07-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/51539]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位RICOH PRINTING SYSTEMS LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
稲永 宏,坂本 順信. 半導体装置及び該半導体装置における放熱方法. JP2008034640A. 2008-02-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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