中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
半導体レーザ素子の製造方法および半導体レーザ素子

文献类型:专利

作者畑 雅幸; 久納 康光; 別所 靖之
发表日期2008-10-16
专利号JP2008252069A
著作权人SANYO ELECTRIC CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子の製造方法および半導体レーザ素子
英文摘要【課題】半導体レーザ素子部の幅を小さくする場合にも、半導体レーザ素子の取り扱い(ハンドリング)が困難になるのを抑制することが可能な半導体レーザ素子の製造方法を提供する。 【解決手段】この半導体レーザ素子の製造方法では、GaN基板50上に、共振器の延びる方向と交差するD方向に所定の間隔を隔てて複数の半導体レーザ素子部80を形成する工程と、複数の半導体レーザ素子部80のうちの一部を、支持基板31に接合する工程と、支持基板31を、共振器の延びるC方向に分割する工程とを備えている。 【選択図】図21
公开日期2008-10-16
申请日期2008-02-12
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/51617]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SANYO ELECTRIC CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
畑 雅幸,久納 康光,別所 靖之. 半導体レーザ素子の製造方法および半導体レーザ素子. JP2008252069A. 2008-10-16.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。