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レーザ光源装置、プロジェクタ、モニタ装置

文献类型:专利

作者上島 俊司
发表日期2010-02-25
专利号JP2010045274A
著作权人セイコーエプソン株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名レーザ光源装置、プロジェクタ、モニタ装置
英文摘要【課題】格段に高出力化や高効率化が可能な光源装置を提供する。 【解決手段】本発明のレーザ光源装置100は、基板100Aと、基板100Aに形成され基板100Aの面方向に光を射出する端面発光型の複数のレーザ素子110と、基板100Aに近接して接合され、複数のレーザ素子110から射出された各々の光を面方向から離れる方向に反射させるとともに集光する光学部材120と、を備えている。 【選択図】図1
公开日期2010-02-25
申请日期2008-08-18
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/51648]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位セイコーエプソン株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
上島 俊司. レーザ光源装置、プロジェクタ、モニタ装置. JP2010045274A. 2010-02-25.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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