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光電変換素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者成井 啓修; 谷口 健博
发表日期1999-12-10
专利号JP1999340570A
著作权人SONY CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光電変換素子およびその製造方法
英文摘要【課題】 放熱を促進することにより発熱の影響を抑制することができる光電変換素子およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 同一の基板11に複数のレーザ発振部20を備える。各レーザ発振部20の間には各絶縁層14を介して放熱層15を設ける。各レーザ発振部20の間はこの放熱層15により平坦化される。放熱層15を基板11と格子整合しかつ不純物を添加しない半導体により構成し、基板11の表面にエピタキシャル成長させて形成する。放熱層15の表面には絶縁層16を形成する。よって、各レーザ発振部20において発生した熱を放熱層15により積極的に放熱でき、熱干渉による閾値電圧の上昇や発光出力の低下を抑制できる。また、放熱層15によりレーザ発振部側の表面を平坦化でき、多層配線が容易となる。
公开日期1999-12-10
申请日期1998-05-25
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/52142]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SONY CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
成井 啓修,谷口 健博. 光電変換素子およびその製造方法. JP1999340570A. 1999-12-10.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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