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a-C:H 膜在不同真空度下的摩擦学行为研究

文献类型:期刊论文

作者吉利; 冶银平; 李红轩; 周惠娣; 陈建敏; 吴艳霞; 孙晓军
刊名功能材料
出版日期2012
卷号43期号:3页码:313-316
关键词磁控溅射 a-C∶H 膜 真空度 摩擦学性能 magnetron sputtering a-C∶H film vacuum degree tribological property
ISSN号1001-9731
通讯作者冶银平
中文摘要采用非平衡磁控溅射技术在不锈钢及Sip(111)基体上制备了含氢无定形碳(a-C∶H) 薄膜,沉积的薄膜表面光滑,硬度高,内应力小,膜/基结合力好。利用球-盘摩擦实验机对薄膜在不同真空度(1.0×105、5.0×10-2、1.0×10-2、5.0×10-3 Pa)下的摩擦学行为进行了研究,结果表明,随着真空度的升高,薄膜的摩擦系数逐渐减小,磨损率逐渐增大。在 5.0×10-3 Pa 时,a-C∶H 膜的摩擦学行为发生突变,此时薄膜的摩擦系数为0.005,而耐磨寿命很短。高真空中,薄膜寿命的突变可能与薄膜脱氢而结构发生变化有关。
学科主题材料科学与物理化学
收录类别EI ; CSCD
资助信息国家自然科学基金资助项目(50705093);创新群体基金资助项目(50421502)
语种中文
CSCD记录号CSCD:4461920
公开日期2013-07-12
源URL[http://210.77.64.217/handle/362003/3525]  
专题兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心
通讯作者冶银平
推荐引用方式
GB/T 7714
吉利,冶银平,李红轩,等. a-C:H 膜在不同真空度下的摩擦学行为研究[J]. 功能材料,2012,43(3):313-316.
APA 吉利.,冶银平.,李红轩.,周惠娣.,陈建敏.,...&孙晓军.(2012).a-C:H 膜在不同真空度下的摩擦学行为研究.功能材料,43(3),313-316.
MLA 吉利,et al."a-C:H 膜在不同真空度下的摩擦学行为研究".功能材料 43.3(2012):313-316.

入库方式: OAI收割

来源:兰州化学物理研究所

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