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光半導体装置とその製造方法

文献类型:专利

作者下川 一生; 冨岡 泰造
发表日期2007-07-12
专利号JP2007180059A
著作权人TOSHIBA CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光半導体装置とその製造方法
英文摘要【課題】 効率が高く、信頼性が高い光半導体装置およびその製造方法を提供すること。 【解決手段】 半導体素子1のリードフレーム12へのマウントをする際に、半導体素子 1およびリードフレームの接合される領域については、Ag,もしくはAg合金によるめ っき膜4を施し、なおかつ、マウントにおける接合材料としてはナノ粒子を含む導電性接 着剤11を用いた。これにより光半導体素子からの発熱を効率的にパッケージ外に放出す るとともに、光を放出する性能を維持しやすい構造が構成でき、長期にわたる信頼性も確 保できた。 【選択図】図2
公开日期2007-07-12
申请日期2005-12-26
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/53759]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位TOSHIBA CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
下川 一生,冨岡 泰造. 光半導体装置とその製造方法. JP2007180059A. 2007-07-12.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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