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半导体激光器及不同折射率腔面膜的制备方法

文献类型:专利

作者周代兵; 赵玲娟
发表日期2019-03-01
专利号CN109402606A
著作权人中国科学院半导体研究所
国家中国
文献子类发明申请
其他题名半导体激光器及不同折射率腔面膜的制备方法
英文摘要本发明公开了一种半导体激光器不同折射率腔面膜的制备方法,该方法包括以下步骤:将半导体激光器解理、装夹、平放入化学气相沉积设备中并抽至高真空,开始膜层沉积过程;衬底加热并控温在300℃;分别设定二氧化硅和氮化硅需要的气体比例、膜厚和层数,在计算机控制下完成反射膜的制备;把镀膜夹具反面,设定氮化硅需要的气体比例和膜厚,在计算机控制下完成透射膜的制备。本发明半导体激光器不同折射率腔面膜的制备方法可以实现在不改变膜系设计、膜系内每层的厚度和薄膜材料的基础上,可实现不同激射波长、不同等效折射率的半导体激光器的不同的反射率和透射率的制备,制备工艺简单,膜层的质量稳定可靠。
公开日期2019-03-01
申请日期2018-12-11
状态申请中
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55035]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
周代兵,赵玲娟. 半导体激光器及不同折射率腔面膜的制备方法. CN109402606A. 2019-03-01.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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