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一种降低微腔半导体激光器阈值的方法

文献类型:专利

作者张昭宇; 刘秀; 方铉; 周陶杰; 项国洪; 项博媛
发表日期2019-04-19
专利号CN109659810A
著作权人香港中文大学(深圳)
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种降低微腔半导体激光器阈值的方法
英文摘要本发明提供了一种降低微腔半导体激光器阈值的方法,包括:将制备得到的微腔半导体激光器器件通入惰性气体启辉;通入等离子气体进行电离,使所述等离子气体附着于所述微腔半导体激光器器件的微腔腔体上,形成表面钝化,以便于降低所述微腔半导体激光器器件的激光器阈值。本发明实现了抑制材料非辐射复合过程,提高发光效率,有效降低激光器件阈值;避免了现有解决激光器器件表面态的(工作阈值)方式为通过含硫溶液进行的钝化手段,但其重复性较差,不易控制,且易破坏微纳尺度器件的缺陷。
公开日期2019-04-19
申请日期2018-12-24
状态申请中
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55177]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位香港中文大学(深圳)
推荐引用方式
GB/T 7714
张昭宇,刘秀,方铉,等. 一种降低微腔半导体激光器阈值的方法. CN109659810A. 2019-04-19.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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