一种用于湿法有机清洗工艺固定晶圆的装置及清洗方法
文献类型：专利
| 作者 | 李喜荣; 宋克昌; 李波; 李青民 |
| 发表日期 | 2019-04-26 |
| 专利号 | CN109686693A |
| 著作权人 | 西安立芯光电科技有限公司 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 一种用于湿法有机清洗工艺固定晶圆的装置及清洗方法 |
| 英文摘要 | 本发明提出一种用于湿法有机清洗工艺固定晶圆的装置及清洗方法，保证半导体激光器芯片在清洗环节中不受损伤的前提下，提高清洁效果。该装置包括：用于吸附晶圆的载台、与载台背面密封固定的后盖以及与后盖固定的手柄，载台正面设置有若干吸附孔，后盖与载台闭合形成与所述若干吸附孔连通的腔室；手柄内具有中空管路，中空管路一端连通所述腔室，另一端通过软管接真空泵；使用时，操作者一只手持该装置的手柄，在不锈钢的带有废液回收的保护罩中，另一只手持喷枪对晶圆表面进行喷淋，既保证了湿法有机清洗工艺的有效性，又降低了使用喷枪清洗的碎片率，提高了产品的良品率及生产的效率。 |
| 公开日期 | 2019-04-26 |
| 申请日期 | 2018-12-28 |
| 状态 | 申请中 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55201]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 西安立芯光电科技有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李喜荣,宋克昌,李波,等. 一种用于湿法有机清洗工艺固定晶圆的装置及清洗方法. CN109686693A. 2019-04-26. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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