面射型雷射裝置及其製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 賴力弘; 賴利溫; 莊誌宏; 吳旻倫 |
| 发表日期 | 2019-05-01 |
| 专利号 | TW201917964A |
| 著作权人 | 華立捷科技股份有限公司 |
| 国家 | 中国台湾 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 面射型雷射裝置及其製造方法 |
| 英文摘要 | 本發明公開一種面射型雷射裝置及其製造方法。面射型雷射裝置包括磊晶疊層體、下電極層、上電極層以及電流散佈層。磊晶疊層體包括基材以及位於基材上的第一反射鏡層、主動層以及第二反射鏡層。主動層位於第一反射鏡層與第二反射鏡層之間，以產生一初始光束。下電極層位於磊晶疊層體上，上電極層位於第二反射鏡層上。上電極層與下電極層之間定義出一經過主動層的電流路徑，且上電極層具有一用於定義出一發光區的孔徑。電流散佈層位於第二反射鏡層上並電性連接下電極層。電流散佈層具有一位於所述電流散佈層的一出光側的多個分光結構，且多個所述分光結構位於孔徑內，以使初始光束通過多個分光結構被分為多個子光束。 |
| 公开日期 | 2019-05-01 |
| 申请日期 | 2017-10-18 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55210]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 華立捷科技股份有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 賴力弘,賴利溫,莊誌宏,等. 面射型雷射裝置及其製造方法. TW201917964A. 2019-05-01. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。