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光走査用光源装置

文献类型:专利

作者中島 智宏; 今河 進
发表日期1994-06-10
专利号JP1994164070A
著作权人RICOH CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光走査用光源装置
英文摘要【目的】 複数の発光点を有する半導体レーザの光出力の検出を光利用効率のよい状態で確実に行い、温度変化等の影響による発光出力変動を適正に補正し得るようにすること。 【構成】 直線上に配列された複数の発光源を有する半導体レーザから出射される書込み光束27を用いて光書込みを行わせるようにした光走査用光源装置において、入射面が鏡面14bとされて半導体レーザから出射される書込み光束27をビーム整形するアパーチャ14を設け、このアパーチャ14の鏡面14bにより反射される検出光束30を受光する各発光源対応の複数個の受光素子33を設け、半導体レーザの前方光束中でアパーチャ14によりケラレ光とされる無効光を検出光として有効利用するようにした。
公开日期1994-06-10
申请日期1992-11-27
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/56245]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位RICOH CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
中島 智宏,今河 進. 光走査用光源装置. JP1994164070A. 1994-06-10.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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