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特性測定装置

文献类型:专利

作者清水 研一
发表日期2002-02-15
专利号JP2002048639A
著作权人RICOH CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名特性測定装置
英文摘要【課題】 半導体レーザユニットからのレーザ光の光強度および光強度分布を測定することができる特性測定装置を提供する。 【解決手段】 本発明の特性測定装置は、半導体レーザ9とこの半導体レーザ9からのレーザ光を収束するレンズ10およびこのレンズ10からのレーザ光を整形するアパーチャ12を有する半導体レーザユニット7からのレーザ光14の特性を測定する特性測定装置において、半導体レーザユニット7からのレーザ光14の光強度を測定する第1の受光素子1と、半導体レーザユニット7からのレーザ光14の光強度分布を測定する第2の受光素子2を備えている。第1および第2の受光素子1、2は、アパーチャ12の開口部12aの面積より大きい受光面積を有するように構成されている。
公开日期2002-02-15
申请日期2000-07-31
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/56340]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位RICOH CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
清水 研一. 特性測定装置. JP2002048639A. 2002-02-15.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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