照射装置
文献类型：专利
| 作者 | 八木 克哉; ▲吉▼田 尚; 新 勇一 |
| 发表日期 | 2003-10-14 |
| 专利号 | JP2003291153A |
| 著作权人 | KONICA CORP |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 照射装置 |
| 英文摘要 | 【課題】 半導体光源を効率的に利用して均一な処理が可能な照射装置を提供すること。 【解決手段】 半導体レーザ12から出射されたレーザ光は、コリメータレンズ21を経て平行光束され、ビーム整形部30を経て所望のビーム断面にされた後、ビームスプリッタ41を通過して2次光源形成部50の集光レンズ51に平行光束として入射する。集光レンズ51に入射したレーザ光は、集光されてピンホール板52に入射する。ピンホール板52の位置には、点状の2次光源が形成され、対物レンズ60には、波面の乱れのない均一なエネルギ分布のレーザ光が入射する。ピンホール板52の点状光源から出射したレーザ光は、対物レンズ60に入射して均一な平行光束に変換される。 |
| 公开日期 | 2003-10-14 |
| 申请日期 | 2002-04-03 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/56347]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | KONICA CORP |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 八木 克哉,▲吉▼田 尚,新 勇一. 照射装置. JP2003291153A. 2003-10-14. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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