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通信用半導体レーザの製造方法および通信用半導体レーザ

文献类型:专利

作者神山 博幸; 向久保 優; 井上 宏明; 北原 知之
发表日期2011-09-01
专利号JP2011171759A
著作权人OPNEXT JAPAN INC
国家日本
文献子类发明申请
其他题名通信用半導体レーザの製造方法および通信用半導体レーザ
英文摘要【課題】半導体レーザでは、温度にはほとんど依存せずに、内部での光パワーの量、即ち外部で観測される光出力量が大きいほど進行する初期故障モードを有するものがある。光出力量が大きいほど進行する初期故障モードのスクリーニングが不十分であり、初期故障率が従来の活性層材料を有する半導体レーザに比べてやや高めである。 【解決手段】製造工程中に室温などの平均的な動作温度に比べて低い温度での大光出力の試験を取り入れることが有効である。これにより、光出力量が大きいほど進行する初期故障モードを有する素子を排除し、期待寿命を延ばす。 【選択図】図7
公开日期2011-09-01
申请日期2011-04-27
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57347]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位OPNEXT JAPAN INC
推荐引用方式
GB/T 7714
神山 博幸,向久保 優,井上 宏明,等. 通信用半導体レーザの製造方法および通信用半導体レーザ. JP2011171759A. 2011-09-01.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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