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半導体レーザ·ダイオード、半導体レーザ·ダイオードを製造するための方法および半導体レーザ·ダイオード装置

文献类型:专利

作者テーガー セバスチャン; バッハマン アレクサンダー
发表日期2018-06-28
专利号JP2018101794A
著作权人オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ·ダイオード、半導体レーザ·ダイオードを製造するための方法および半導体レーザ·ダイオード装置
英文摘要【課題】温度分布の不均一性を減少させる半導体レーザ·ダイオードを提供する 【解決手段】動作中に放射取り出し表面を介してレーザ放射を放出する活性層11と互いに上下に縦に設けられた半導体層を有する半導体層積層体1であって、放射取り出し表面が半導体層積層体の側面によって形成される、半導体層積層体と、半導体層積層体の主表面上に相互に横方向に隣接する熱障壁層2および金属コンタクト層5とを備え、熱障壁層が電気絶縁性多孔質材料によって形成される、半導体レーザ·ダイオードを特定する。その結果、動作中に生じる熱を、ヒートシンク20まで金属コンタクト層5を介して伝達し、二次元温度勾配の形成を回避し、端面発光体における熱レンズを打ち消す。 【選択図】図3
公开日期2018-06-28
申请日期2018-02-05
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57693]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
推荐引用方式
GB/T 7714
テーガー セバスチャン,バッハマン アレクサンダー. 半導体レーザ·ダイオード、半導体レーザ·ダイオードを製造するための方法および半導体レーザ·ダイオード装置. JP2018101794A. 2018-06-28.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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