繞射光學元件、光照射裝置
文献类型：专利
| 作者 | 宮崎祐一; 登山伸人; 吉岡英範 |
| 发表日期 | 2018-05-01 |
| 专利号 | TW201816431A |
| 著作权人 | 日商大日本印刷股份有限公司 |
| 国家 | 中国台湾 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 繞射光學元件、光照射裝置 |
| 英文摘要 | [課題]提供一種：光的利用效率高，且即便光的入射角產生偏差時，也能得到對繞射光的影響小且穩定的所期望繞射光，再來，繞射光的虹班也少的繞射光學元件、光照射裝置。 [解決手段]一種將光整形的繞射光學元件(10)，具有：繞射層(15)，該繞射層具備：在剖面形狀並列配置有複數凸部(11a)的高折射率部(11)；折射率比前述高折射率部(11)還低，且包含至少在凸部(11a)之間形成的凹部(12)的低折射率層(14)；其中，凸部(11a)在其側面形狀的至少一方側，具有：具備高度相異的複數段部(11a-1，11a-2，11a-3，11a-4)的多階段形狀；凸部(11a)的側面形狀至少在一部分包含：相對於包含繞射層(15)的平面呈傾斜的傾斜部(11b，11c，11d)。 |
| 公开日期 | 2018-05-01 |
| 申请日期 | 2017-07-21 |
| 状态 | 申请中 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57906]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 日商大日本印刷股份有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宮崎祐一,登山伸人,吉岡英範. 繞射光學元件、光照射裝置. TW201816431A. 2018-05-01. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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