マルチビーム発生素子、マルチビームを用いた光記録装置
文献类型：专利
| 作者 | 門馬 進; 柴山 恭之; 片岡 慶二 |
| 发表日期 | 2008-03-21 |
| 专利号 | JP2008065306A |
| 著作权人 | RICOH PRINTING SYSTEMS LTD |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | マルチビーム発生素子、マルチビームを用いた光記録装置 |
| 英文摘要 | 【課題】本発明は、マルチビーム発生部全体での光利用効率を向上させ、多いビーム数でも光学系の収差の影響を受け難くい、高速で高品質な光記録を実現することを可能としたマルチビーム発生素子、及び前記マルチビーム発生素子を用いた光記録装置を提供する。 【解決手段】複数の半導体レーザと、前記半導体レーザが発したレーザビームを伝搬する複数の光ファイバと、前記光ファイバを通過したレーザビームを伝搬する光ファイバアレイと、前記光ファイバアレイを通過したレーザビームを伝搬するところの複数の導波路が設けられた光導波素子を有するマルチビーム発生素子において、前記導波路はコア層とクラッド層を有し、前記導波路の並び間隔は、レーザビームが入射する入力部側よりもレーザビームが出射する出力部側が狭く、前記コア層は前記導波路の並び方向である左右方向の幅が上下方向の幅よりも狭く、コア層とクラッド層の屈折率差は、左右方向側が上下方向側よりも大きいことを特徴とする。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2008-03-21 |
| 申请日期 | 2007-05-29 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/58065]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | RICOH PRINTING SYSTEMS LTD |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 門馬 進,柴山 恭之,片岡 慶二. マルチビーム発生素子、マルチビームを用いた光記録装置. JP2008065306A. 2008-03-21. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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