記録装置及び発光強度制御方法
文献类型：专利
| 作者 | 持田 裕彦; 安井 祐治; 村上 和則; 大高 善光 |
| 发表日期 | 2009-03-19 |
| 专利号 | JP2009056697A |
| 著作权人 | TOSHIBA TEC CORP |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 記録装置及び発光強度制御方法 |
| 英文摘要 | 【課題】複数のレーザ光源の発光強度の変動を正確に補正すること。 【解決手段】各半導体レーザ11a、11b、…、11hから出力される各レーザビームを主走査方向に対する走査幅を広げて記録媒体3のエリア外に走査し、この記録媒体3のエリア外に走査されたレーザビームの光強度をモニタし、このモニタされたレーザビームの光強度に応じて各半導体レーザ11a、11b、…、11hの発光強度をそれぞれ個別に制御する。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2009-03-19 |
| 申请日期 | 2007-08-31 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/58121]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | TOSHIBA TEC CORP |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 持田 裕彦,安井 祐治,村上 和則,等. 記録装置及び発光強度制御方法. JP2009056697A. 2009-03-19. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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