基板を露光するための放射エネルギーの線光源を有する装置
文献类型：专利
| 作者 | デイビッド エイ. マークル; アンドリュー エム. ホウリラック; フワン ジェイ. ジオング |
| 发表日期 | 2010-06-03 |
| 专利号 | JP2010123994A |
| 著作权人 | ULTRATECH STEPPER INC |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 基板を露光するための放射エネルギーの線光源を有する装置 |
| 英文摘要 | 【課題】放射エネルギーを用いて基板を処理するのに好適な装置を提供すること。 【解決手段】本発明の装置は、レーザダイオードアレイのような放射エネルギーの少なくとも1つの線光源(12)を含む。この装置はまた、線光源から放射エネルギーを受け取り、かつ、基板上に比較的均一な線像を形成するようにこのようなエネルギーを指向させるように位置付けられたアナモルフィック光学リレー(22)を含む。この装置はまた、アナモルフィック光学リレーの焦点面に位置付けられた少なくとも1つのデリミッタアパーチャと、その後にある結像リレーとを含み、これにより、基板は、回路間のスクライブ線に位置付けられた隣接するストリップ間の境界によって、ストリップ状に露光され得る。コントローラおよび他の素子を用いて、光源出力と、線像に対する基板の位置および速度とを制御し、これにより、所望量の均一なドーズが基板上で達成され得る。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2010-06-03 |
| 申请日期 | 2010-02-04 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/58509]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | ULTRATECH STEPPER INC |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | デイビッド エイ. マークル,アンドリュー エム. ホウリラック,フワン ジェイ. ジオング. 基板を露光するための放射エネルギーの線光源を有する装置. JP2010123994A. 2010-06-03. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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