先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
文献类型:专利
作者 | マーチン イー ファーマン; イングマー ハール; ジェナディ イメシェフ; ラジェッシュ エス パテル |
发表日期 | 2010-12-16 |
专利号 | JP2010283392A |
著作权人 | イムラ アメリカ インコーポレイテッド |
国家 | 日本 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器 |
英文摘要 | 【課題】高エネルギピコ秒、ナノ秒パルス用ファイバベース光源の構築を目的とする。 【解決手段】ファイバ増幅器での非線形エネルギ制限を最小化することで、光ファイバの損傷閾値に近いパルスエネルギが発生され得る。少なくとも一つの非線形ファイバ増幅器を含む増幅器チェーンと共に最適化されたシード光源を実施することは、バンド幅制限近い高エネルギピコ秒パルスの発生を可能にする。高エネルギパルス化されるファイバ増幅器の最適化シード光源は、半導体レーザも伸長モードロックファイバレーザも含む。ファイバ増幅器から得られるパルスエネルギの最大化は、さらに高繰り返し周期で高エネルギ紫外、赤外パルスの発生を可能にする。 【選択図】図1 |
公开日期 | 2010-12-16 |
申请日期 | 2010-09-17 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/58572] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | イムラ アメリカ インコーポレイテッド |
推荐引用方式 GB/T 7714 | マーチン イー ファーマン,イングマー ハール,ジェナディ イメシェフ,等. 先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器. JP2010283392A. 2010-12-16. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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