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ビーム径制御方法および装置

文献类型:专利

作者角 克人
发表日期1998-03-06
专利号JP1998062714A
著作权人FUJI PHOTO FILM CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名ビーム径制御方法および装置
英文摘要【課題】 レーザビームの集光ビーム径を変えるビーム径制御方法または装置において、光利用効率を高くし、複雑で高価な光学系やズーム系を不要にする。 【解決手段】 レーザビームの一部の光束を偏光を利用して分割し、偏光状態が異なる部分を集光することによりビーム径を拡大する。このために、レーザビームの光束の一部に偏光状態を変換する偏光素子を介在させる。光源としては半導体レーザが望ましい。直線偏光とした場合には偏光素子は、レーザビームの光束の中心付近に置いたλ/2板、λ/4板などとすることができる。偏光素子は光束の外周付近を囲む円環状のものであってもよい。偏光素子はレーザビームの平行ビーム内に置くのがよい。偏光素子を光束内に保持するためには、全光束が通る一定厚さの透明支持板を設けておき、ここに固定すればよい。反対にリング状の偏光素子であってもよい。
公开日期1998-03-06
申请日期1996-08-19
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60031]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJI PHOTO FILM CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
角 克人. ビーム径制御方法および装置. JP1998062714A. 1998-03-06.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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