ビーム径制御方法および装置
文献类型:专利
作者 | 角 克人 |
发表日期 | 1998-03-06 |
专利号 | JP1998062714A |
著作权人 | FUJI PHOTO FILM CO LTD |
国家 | 日本 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | ビーム径制御方法および装置 |
英文摘要 | 【課題】 レーザビームの集光ビーム径を変えるビーム径制御方法または装置において、光利用効率を高くし、複雑で高価な光学系やズーム系を不要にする。 【解決手段】 レーザビームの一部の光束を偏光を利用して分割し、偏光状態が異なる部分を集光することによりビーム径を拡大する。このために、レーザビームの光束の一部に偏光状態を変換する偏光素子を介在させる。光源としては半導体レーザが望ましい。直線偏光とした場合には偏光素子は、レーザビームの光束の中心付近に置いたλ/2板、λ/4板などとすることができる。偏光素子は光束の外周付近を囲む円環状のものであってもよい。偏光素子はレーザビームの平行ビーム内に置くのがよい。偏光素子を光束内に保持するためには、全光束が通る一定厚さの透明支持板を設けておき、ここに固定すればよい。反対にリング状の偏光素子であってもよい。 |
公开日期 | 1998-03-06 |
申请日期 | 1996-08-19 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60031] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | FUJI PHOTO FILM CO LTD |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 角 克人. ビーム径制御方法および装置. JP1998062714A. 1998-03-06. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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