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GaN系素子用基板及びその製造方法及びGaN系素子

文献类型:专利

作者柴田 真佐知; 古屋 貴士
发表日期1998-04-24
专利号JP1998107317A
著作权人日立電線株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名GaN系素子用基板及びその製造方法及びGaN系素子
英文摘要【課題】基板を導電性とし、高品質なGaN系結晶を成長させることができ、構成上、基板の裏面及び表面のそれぞれにn型及びp型の電極を設けることができ、電極の配置が要する面積及び光の取り出しに支障を来すことがなく、更に、劈開性に優れGaN系素子のチップ化が容易であり、特にGaN系レーザダイオード(LED)では、発光効率、光の取り出し効率の向上が図れるGaN系素子用基板を提供する。 【解決手段】この発明のGaN系素子用基板は、シリコン単結晶基板と、前記シリコン単結晶基板上に堆積された金属アルミニウム単結晶層と、前記金属アルミニウム単結晶層上に成長したAlx Iny Ga(1-x-y) N(但し0≦x<1、0≦y<1,0≦(x+y)<1)で表される単結晶層と、より構成される。
公开日期1998-04-24
申请日期1996-09-27
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60039]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日立電線株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
柴田 真佐知,古屋 貴士. GaN系素子用基板及びその製造方法及びGaN系素子. JP1998107317A. 1998-04-24.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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