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マルチビーム書込装置

文献类型:专利

作者柴田 章弘
发表日期1998-07-21
专利号JP1998190115A
著作权人キヤノン株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名マルチビーム書込装置
英文摘要【課題】 1つの基準電圧で2つの半導体レーザのAPC制御を行っているので半導体レーザの特性のバラツキによって画像の濃度ムラを生じる。 【解決手段】 複数のレーザ光源2,3を備え、各々のレーザ光源を画像信号に応じて駆動し、各々のレーザ光源から発した複数のレーザ光を感光ドラム上に同時に走査することによって、光書き込みを行うマルチビーム書込装置において、各々のレーザ光源から発したレーザ光の一部を検出する光検出器4と、各々のレーザ光源に対応して設けられ、各レーザ光源ごとに予め独立して調整された基準電圧V3,V4を発生する基準電圧発生回路とを備え、各々のレーザ光源ごとに光検出器の出力信号と対応する基準電圧発生回路の基準電圧を比較することによって、各々のレーザ光源の光量を所望の光量に制御する。
公开日期1998-07-21
申请日期1996-12-20
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60052]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位キヤノン株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
柴田 章弘. マルチビーム書込装置. JP1998190115A. 1998-07-21.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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