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レーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置

文献类型:专利

作者古田 啓介; 竹中 裕司; 小島 哲夫; 安井 公治
发表日期2001-04-27
专利号JP2001119101A
著作权人MITSUBISHI ELECTRIC CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名レーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置
英文摘要【課題】 比較的安価で且つ一般的な構成部品を使用可能であるとともに、レーザ発振源から外部への一層良好な伝送効率を実現し得るレーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置を提供する。 【解決手段】 半導体レーザから出射される異方性を備えたレーザ光を所定の光学系により集光した上で、光ファイバの一端側へ入射させる。光ファイバを介して伝送されるレーザ光は等方性を有するように変換される。上記光ファイバとしては、屈折率分布型の光ファイバを用いる。
公开日期2001-04-27
申请日期1999-10-20
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60322]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MITSUBISHI ELECTRIC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
古田 啓介,竹中 裕司,小島 哲夫,等. レーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置. JP2001119101A. 2001-04-27.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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