ビーム整形素子の設計方法
文献类型:专利
作者 | 大利 祐一郎 |
发表日期 | 2001-09-07 |
专利号 | JP2001242414A |
著作权人 | MINOLTA CO LTD |
国家 | 日本 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | ビーム整形素子の設計方法 |
英文摘要 | 【課題】レーザービームを任意の強度分布形状に整形するビーム整形素子の形状を最適化により求めるための、ビーム整形素子の設計方法を提供する。 【解決手段】回折光学素子の位相関数の初期解を生成するステップと、その位相関数の初期解による点像分布関数を計算するステップと、その点像分布関数の分布とその点像分布関数から決定されるターゲット関数とを評価関数として、最適化アルゴリズムによりその評価関数に最も近づくように前記位相関数の解を収束させるプロセスとを有する事を特徴とするビーム整形素子の設計方法を行う。 |
公开日期 | 2001-09-07 |
申请日期 | 2000-03-01 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60373] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | MINOLTA CO LTD |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 大利 祐一郎. ビーム整形素子の設計方法. JP2001242414A. 2001-09-07. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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