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ビーム整形素子の設計方法

文献类型:专利

作者大利 祐一郎
发表日期2001-09-07
专利号JP2001242414A
著作权人MINOLTA CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名ビーム整形素子の設計方法
英文摘要【課題】レーザービームを任意の強度分布形状に整形するビーム整形素子の形状を最適化により求めるための、ビーム整形素子の設計方法を提供する。 【解決手段】回折光学素子の位相関数の初期解を生成するステップと、その位相関数の初期解による点像分布関数を計算するステップと、その点像分布関数の分布とその点像分布関数から決定されるターゲット関数とを評価関数として、最適化アルゴリズムによりその評価関数に最も近づくように前記位相関数の解を収束させるプロセスとを有する事を特徴とするビーム整形素子の設計方法を行う。
公开日期2001-09-07
申请日期2000-03-01
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60373]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MINOLTA CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
大利 祐一郎. ビーム整形素子の設計方法. JP2001242414A. 2001-09-07.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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