ホログラム素子およびその製造方法、並びにそのホログラム素子を用いた半導体レーザ装置
文献类型：专利
| 作者 | 増井 克栄 |
| 发表日期 | 2001-09-26 |
| 专利号 | JP2001264541A |
| 著作权人 | SHARP CORP |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | ホログラム素子およびその製造方法、並びにそのホログラム素子を用いた半導体レーザ装置 |
| 英文摘要 | 【課題】 回折格子またはホログラムの溝の断面形状を理想的な形状からずらすことなく、表面での光反射を低減させるコーティング膜を設ける。 【解決手段】 透明基板7上にコーティング膜20を形成した後で、エッチングまたは2P法により溝203を形成する。溝203の側面202や角部201に不要なコーティング膜20が形成されないため、散乱光が生じて光の利用効率が低下したり、半導体レーザ装置において信号対雑音比が低下することはない。 |
| 公开日期 | 2001-09-26 |
| 申请日期 | 2000-03-21 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60387]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | SHARP CORP |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 増井 克栄. ホログラム素子およびその製造方法、並びにそのホログラム素子を用いた半導体レーザ装置. JP2001264541A. 2001-09-26. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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