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半導体レーザ装置およびその製造方法並びに光ディスク再生記録装置

文献类型:专利

作者蛭川 秀一
发表日期2003-07-04
专利号JP2003188478A
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置およびその製造方法並びに光ディスク再生記録装置
英文摘要【課題】 高出力·高信頼性·長寿命な半導体レーザ装置およびその製造方法を得ること。 【解決手段】 650℃の成長温度で、多重歪量子井戸活性層105のGaAsPからなるバリア層を積層した直後に、AlGaAsからなる第二上ガイド層126を積層する。この第二上ガイド層126はP系層に適した成長温度である650℃のままで成長させて、上記バリア層からのPの脱離を低減して上記バリア層と第二上ガイド層126との界面の粗さの大きさを20Å以下にまで下げる。その後、第一上ガイド層106を積層する。この第一上ガイド層106の成長温度は、成長開始時は650℃であるが、成長と同時に成長温度の上昇を開始して、成長終了時まで徐々に昇温して、成長終了時に750℃にする。
公开日期2003-07-04
申请日期2001-12-18
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60774]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
蛭川 秀一. 半導体レーザ装置およびその製造方法並びに光ディスク再生記録装置. JP2003188478A. 2003-07-04.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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